【摘要】本發(fā)明涉及的是一種用于切削工具技術(shù)領(lǐng)域的 TiNAlON納米多層涂層反應(yīng)磁控濺射制備方法。分別采用直 流陰極控制的Ti靶和射頻陰極控制的 Al2O3靶,通過在Ar氣和N2氣的 混合氣氛中的反應(yīng)濺射分別獲得TiN和AlON沉積層,并通
【摘要】 1.請(qǐng)求保護(hù)的外觀設(shè)計(jì)包含有色彩。 2.本外觀設(shè)計(jì)產(chǎn)品為平面產(chǎn)品,省略其他視圖。 3.單元圖案四方連續(xù),無限定邊界。 【專利類型】外觀設(shè)計(jì) 【申請(qǐng)人】上海聯(lián)樂實(shí)業(yè)有限公司 【申請(qǐng)人類型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】201112上海市閔行區(qū)聯(lián)星路281號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】上海市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200630035016.2 【申請(qǐng)日】2006-03-31 【申請(qǐng)年份】2006 【公開公告號(hào)】CN3619768D 【公開公告日】2007-03-14 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN3619768D 【授權(quán)公告日】2007-03-14 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】趙茂祥 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】無 【當(dāng)前權(quán)利人】上海聯(lián)樂實(shí)業(yè)有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市閔行區(qū)聯(lián)星路281號(hào) 【專利權(quán)人類型】其他有限責(zé)任公司 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】91310112133374145M
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