【摘要】本發(fā)明涉及一種磁控濺射鍍膜用低熔點金屬與 背板加工工藝，該工藝包括準(zhǔn)備低熔點金屬坯料和背板材料， 對背板材料進行處理，使背板層與低熔點金屬層接觸的一面呈 規(guī)則或不規(guī)則的槽或溝，增加其表面積，將低熔點金屬坯料熔 化，清理背板雜質(zhì)，將低
【摘要】 一種用聚合物電解質(zhì)膜電解有機物水溶液制氫 的方法，屬于能源技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明在由聚合物電解質(zhì)膜組成 的電解槽中，陽極端通入有機物水溶液，并同時注入空氣，在 正負極兩端加上電壓進行電解，然后在陰極端收集到氫氣。本 發(fā)明利用聚合物電解質(zhì)膜裝置電解具有低分解電壓的有機化 合物，同時，在陽極回路中加入空氣，減少電化學(xué)反應(yīng)中間產(chǎn) 物在催化劑表面的停留時間，降低陽極反應(yīng)的過電位，加速陽 極氧化速度，使得電解電位始終在1V以下，大大降低了電解 制氫的耗電量，節(jié)約了能源，預(yù)計會有可觀的經(jīng)濟效益。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】上海交通大學(xué) 【申請人類型】學(xué)校 【申請人地址】200240上海市閔行區(qū)東川路800號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610027978.2 【申請日】2006-06-22 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1896317A 【公開公告日】2007-01-17 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】C25B1/10; C25B13/08 【發(fā)明人】余晴春 【主權(quán)項內(nèi)容】1.一種用聚合物電解質(zhì)膜電解有機物水溶液制氫的方法，其特征在于：在由聚合物電解質(zhì)膜組成的電解槽中，陽極端通入有機物水溶液，并同時注入空氣，在正負極兩端加上電壓進行電解，然后在陰極端收集到氫氣。 【當(dāng)前權(quán)利人】上海交通大學(xué) 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市閔行區(qū)東川路800號 【統(tǒng)一社會信用代碼】1210000042500615X0 【引證次數(shù)】1.0 【被引證次數(shù)】3 【他引次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】3.0 【家族引證次數(shù)】1.0 【家族被引證次數(shù)】3
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