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一種防止DGS的像素電極結構及其制造方法

時間:2026-04-12    作者:admin 點擊: ( 0 ) 次

【摘要】 本發(fā)明提供了一種防止DGS的像素電極結構,包括:柵線、柵電極、柵絕緣層、半導體層、源漏電極、數(shù)據(jù)線及像素電極,其特征在于:在漏電極與數(shù)據(jù)線連接處下方的半導體層上有一孔道,該孔道中漏電極或數(shù)據(jù)線直接與柵絕緣層相連。本發(fā)明同時還提供了一種防止DGS的像素電極結構的制造方法,其主要是在基板上沉積柵絕緣薄膜,半導體薄膜,通過掩膜和刻蝕形成硅島時,在后續(xù)步驟形成數(shù)據(jù)線與漏電極連接處的附近位置的半導體層上形成一孔道。通過本發(fā)明的改良結構和采用制造該改良結構的工藝,能夠有效減少DGS的發(fā)生幾率,能夠增大工藝自由度,減少工藝缺陷,提高成品率。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】北京京東方光電科技有限公司; 京東方科技集團股份有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】100176北京經濟技術開發(fā)區(qū)西環(huán)中路8號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】大興區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610082969.3 【申請日】2006-06-23 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101093842A 【公開公告日】2007-12-26 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100433337C 【授權公告日】2008-11-12 【授權公告年份】2008.0 【IPC分類號】H01L27/12; H01L23/52; H01L21/84; H01L21/768; G02F1/133; G02F1/13; H01L21/70 【發(fā)明人】陳旭 【主權項內容】1、一種防止DGS的像素電極結構,包括:柵線、柵電極、柵絕緣層、半 導體層、源漏電極、數(shù)據(jù)線及像素電極,其特征在于:在漏電極與數(shù)據(jù)線連 接處附近下方的半導體層上有一孔道,孔道中漏電極或數(shù)據(jù)線直接與柵絕緣 層相連。 微信 【當前權利人】北京京東方光電科技有限公司; 京東方科技集團股份有限公司 【當前專利權人地址】北京經濟技術開發(fā)區(qū)西環(huán)中路8號; 北京市朝陽區(qū)酒仙橋路10號 【專利權人類型】有限責任公司(臺港澳與境內合資); 其他股份有限公司(上市) 【統(tǒng)一社會信用代碼】911103027493533932; 911100001011016602 【被引證次數(shù)】2 【被自引次數(shù)】1.0 【被他引次數(shù)】1.0 【家族引證次數(shù)】4.0 【家族被引證次數(shù)】2

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